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          脈沖激光沉積系統

          產品時間:2022-02-28
          脈沖激光沉積(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被稱為脈沖激光燒蝕(Pulsed laser ablation,PLA)指的是用激光使材料揮發,從而將材料鍍在所要求的樣品(襯底)上的薄膜沉積技術。PLD-301脈沖激光沉積系統是日本誠南工業根據客戶的要求,在豐富經驗的基礎上設計制造的,采用PBN加熱器,可將基板加熱到1000℃以上,并采用氧氣氣氛,從而生產出高質量的薄膜。

          脈沖激光沉積(Pulsed Laser Deposition,PLD),也被稱為脈沖激光燒蝕(Pulsed laser ablation,PLA)指的是用激光使材料揮發,從而將材料鍍在所要求的樣品(襯底)上的薄膜沉積技術。PLD-301脈沖激光沉積系統是日本誠南工業根據客戶的要求,在豐富經驗的基礎上設計制造的,采用PBN加熱器,可將基板加熱到1000℃以上,并采用氧氣氣氛,從而生產出高質量的薄膜。 

          誠南工業PLD-301脈沖激光沉積系統設備配置  

          薄膜沉積室
          樣品交換室
          閘閥
          閘閥(沉積室和樣品交換室之間)
          沉積室用真空計
          樣品交換室用真空計
          沉積室排氣系統
          樣品交換室排氣系統
          襯底加熱系統
          靶材臺系統
          激光鐳射
          臺架

          可選項
          電子槍
          襯底加熱系統
          手套箱
          手套箱運送機構
          基材溫度測量用溫度計
          離子泵

          誠南工業PLD-301脈沖激光沉積系統規格

          沉積室中達到的真空度:1×10-6Pa以下
          表面處理:電拋光(內表面鏡面拋光后)
          排氣系統:渦輪分子泵+旋轉泵,輔助閥、排氣管道部件
          樣品交換室達到的真空度:1×10-4Pa或更低
          表面處理:電拋光(內表面鏡面拋光后)。
          排氣系統:渦輪分子泵+旋轉泵,輔助閥、排氣管道部件

          誠南工業PLD-301脈沖激光沉積系統的使用:

          先將真空室抽到一定真空度, 靶面與基片平行放置, 激光束經由石英透鏡聚焦到旋轉的目標靶材上, 靶材和試樣托分別以一定速度自轉,以保證沉積薄膜層的均勻性。

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